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三氟化氮
化学式：NF3
纯度规格：5N
主要用途：清洗、刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、 显示面板
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六氟化钨
化学式：WF6
纯度规格：6N
用途：沉积
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
Details 白箭头 黑箭头
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