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四氟化硅

化学式:SiF4
纯度规格:5N
用途:沉积
主要应用领域:集成电路(LOGIC)、光纤
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       四氟化硅纯度可达5N,主要应用于大规模集成电路制造中有机硅化合物的合成、离子注入工艺掺杂剂及化学气相沉积工艺。

关键词:
四氟化硅
沉积
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